半導體材料大突破！首隻國産ArF光刻膠通過驗證 - 新聞

昨日（17日）盤後，南大光電公告，公司控股子公司寧波南大光電自主研髮的ArF光刻膠産品近日成功通過客戶的使用認證，這標誌著“ArF光刻膠産品開髮和産業化”項目取得瞭關鍵性的突破，成爲國內通過産品驗證的第一隻國産ArF光刻膠。

認證評估報告顯示，“本次認證選擇客戶50nm閃存産品中的控製柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠産品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。”

據瞭解，“ArF光刻膠産品開髮和産業化”是寧波南大光電承接國傢“02專項”的一箇重點攻關項目，總投資6億元，項目完全達産後，預計實現約10億元的年銷售額，年利稅預計約2億元。

資料顯示，光刻膠是半導體光刻工藝的核心材料，決定瞭半導體圖形工藝的精密程度和良率，其質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。

與此相對的，作爲高精尖的半導體製造核心材料，由於技術壁壘和客戶壁壘高，全球半導體光刻膠市場集中度高，市場被美日公司長期壟斷。日本的JSR、東京應化、信越化學及富士電子四傢企業佔據瞭全球70%以上的市場份額，處於市場壟斷地位。

按不衕製程，半導體用光刻膠可分爲EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均爲高端光刻膠産品，産業信息網數據顯示，截至2019年國內在g線/i線光刻膠僅達到20%自給率，而KrF光刻膠自給率不足 5%，ArF光刻膠則完全依賴進口。

研髮進度上，EUV光刻膠爲目前市場上最高端的光刻膠，目前國內還未開始涉及，但在ArF光刻膠、KrF光刻膠領域，除瞭南大光電外，國內已有衆多企業相繼開啟研髮。

結閤券商研報，國內半導體光刻膠産業鏈重點公司情況如下：

晶瑞股份：子公司蘇州瑞紅承擔併完成瞭國傢02專項“i線光刻膠産品開髮及産業化”項目，i線光刻膠已曏國內頭部的知名大尺寸半導體廠商供貨，KrF光刻膠完成中試，産品分辨率達到瞭0.25～0.13μm的技術要求，建成瞭中試示範線。10月12日，晶瑞股份對深交所關註函的回覆公告顯示，公司擬購買光刻機設備的型號爲ASML XT 1900Gi ArF浸入式光刻機，可用於研髮最高分辨率達28nm的高端光刻膠。

上海新陽：主攻KrF和榦法ArF光刻膠，已經進入産能建設階段。根據2020年11月3日定增預案，公司擬定增募資不超過14.50億元，其中8.15億元擬投資於集成電路製造用高端光刻膠研髮、産業化項目，主要目標爲實現ArF榦法工藝使用的光刻膠和麵曏3D NAND颱階刻蝕的KrF厚膜光刻膠的産業化，力爭於2023年前實現上述産品的産業化，填補國內空白。

北京科華（未上市）：産品類型覆蓋KrF（248nm）、G/I 線（含寬譜）， KrF（248nm）光刻膠已經通過包括中芯國際在內的部分客戶認證，併實現批量供貨，G線、i線光刻膠已實現量産供貨。

華泰證券研究員鬍劍11月18日報告指齣，一方麵我國齣颱瞭多項相關政策，爲光刻膠産業髮展提供瞭良好的政策支持，另一方麵國傢集成電路大基金二期佈局規劃明確支持包括光刻膠在內的國産半導體材料産業鏈，國産光刻膠研髮和量産或將提速，國內廠商紛紛計劃在被日美壟斷的半導體光刻膠領域擴大投入，併在高端ArF光刻膠領域研髮和量産持續突破。

根據智研諮詢預測，2022年中國大陸半導體光刻膠市場空間將會接近55億元，是2019年的兩倍。鬍劍進一步指齣，以日本光刻膠髮展史爲鑒，認爲在擁有全球最大電子産業和半導體市場的中國，持續擴大的本土半導體産能、國傢政策和決心與集成電路大基金的支持都將爲中國國産光刻膠提供前所未有的髮展新機遇。